Lanthanum Hexaboride / LaB?

란타넘 헥사보라이드 / 육붕화란타넘

전자 방출 특성 · 고온 안정성 · 전기전도성을 갖춘 기능성 세라믹 소재

링 · 디스크 · 판재 · 봉재 · 튜브 · 기판 · 타겟 · 분말 · 전극 · 정밀 가공품 외

01. 제품소개

**Lanthanum Hexaboride(LaB?, 란타넘 헥사보라이드 / 육붕화란타넘)**는 란타넘(La)과 붕소(B)로 이루어진 고기능성 세라믹 소재입니다.

LaB?는 낮은 일함수와 우수한 열전자 방출 특성을 갖고 있어

전자현미경, 전자빔 장비 및 각종 진공 전자장비의 전자 방출원(Electron Source / Cathode) 소재로 잘 알려져 있습니다.

또한 높은 융점과 고온 안정성, 전기전도 특성을 갖추고 있어 고온 전극, 진공장비 부품 및 특수 연구용 소재로도 활용됩니다.

분말부터 링, 디스크, 판재, 봉재, 타겟 및 각종 특수형상까지 공급할 수 있으며, 사용 목적과 도면에 따른 정밀 가공 및 주문제작에도 대응할 수 있습니다.

02. 제품특징 · 가공형태

우수한 열전자 방출 특성

낮은 일함수를 기반으로 효율적인 열전자 방출이 가능하여 전자빔 발생용 Cathode 소재로 활용됩니다.

높은 융점과 고온 안정성

고온 환경에서 안정적인 특성이 요구되는 전극 및 진공장비 부품에 적용할 수 있습니다.

전기전도 특성

일반적인 절연성 세라믹과 달리 전기전도성을 갖고 있어 전극 및 전자 방출 관련 부품 소재로 활용됩니다.

진공 환경 적용

전자현미경, 전자빔 장비 및 각종 고진공 시스템의 기능성 부품 소재로 사용할 수 있습니다.

다양한 형상 제작

사용 목적에 따라 링, 디스크, 판재, 봉재 및 특수형상으로 제작할 수 있습니다.

주요 가공형태

LaB? Ring / LaB? 링
진공장비, 전극 및 특수 연구장비용 부품

LaB? Disc / LaB? 디스크
전자·진공장비 및 연구개발용 부품

LaB? Plate / LaB? 판재
전극 및 특수형상 정밀가공용 소재

LaB? Rod / LaB? 봉재
전자 방출원, 전극 및 정밀가공용 소재

LaB? Target / LaB? 타겟
박막 증착 및 소재 연구용 스퍼터링 타겟

LaB? Powder / LaB? 분말
소결체 제조, 소재 개발 및 연구용 원료

LaB? Cathode / LaB? 캐소드
전자현미경 및 전자빔 장비용 전자 방출 소재

Custom LaB? Parts / 정밀 가공품
링, 홀, 홈, 단차 등 도면 기반 특수형상 주문제작

03. 적용분야

전자현미경

SEM, TEM 등 전자현미경의 고휘도 전자 방출원 및 관련 부품

전자빔 장비

전자빔 발생장치, 전자빔 용접 및 각종 전자빔 응용 시스템

진공 · 고진공 장비

진공 환경에서 사용하는 전극, 전자원 및 특수 기능성 부품

박막 · 스퍼터링

LaB? Target을 이용한 박막 증착 및 기능성 소재 연구

고온 전극

고온 환경에서 전기전도성과 열적 안정성이 요구되는 전극 및 관련 부품

대학 · 연구소 · R&D

전자 방출, 진공, 플라즈마, 신소재 및 고온 소재 연구용 시제품과 특수 가공품

04. 주문제작 안내

1. 소재명 / 재질
Lanthanum Hexaboride / LaB? / 란타넘 헥사보라이드

2. 제품 형태
링, 디스크, 판재, 봉재, 튜브, 타겟, 분말, 전극, 정밀 가공품 등

3. 외형 치수
외경 / 내경 / 길이 / 폭 / 높이 / 두께 등

4. 공차
제품 사용 목적에 따른 요구 치수공차

5. 가공 형상
홀, 홈, 슬롯, 단차 및 기타 특수형상

6. 표면 상태

연마 여부, 표면조도 및 기타 표면 요구조건

7. 사용 온도
실제 사용온도 및 최대 사용온도

8. 수량
연구용 샘플 / 소량 제작 / 양산 수량

9. 도면 및 기타 요구사항

2D·3D 도면, 요구 순도, 사용 분위기, 진공도 및 기타 특수 요구조건

※ 정밀 가공품은 도면 검토 후 제작 가능 여부와 가공공차를 협의할 수 있습니다.

※ LaB?의 실제 전기적·열적 특성은 순도, 밀도, 제조방법, 제품 형상 및 사용환경에 따라 달라질 수 있습니다.